鈦靶材在真空電鍍領(lǐng)域的應(yīng)用特點(diǎn)

發(fā)布時(shí)間：2023-02-11 17:36:20 瀏覽次數(shù) ：

隨著時(shí)代的發(fā)展，為了滿足更安全、更節(jié)能、降低噪聲、減少污染物排放的要求，在表面處理工藝上，真空電鍍已經(jīng)成為環(huán)保新趨勢(shì)。與一般的電鍍不同，真空電鍍更加環(huán)保，同時(shí)，真空電鍍可以生產(chǎn)出普通電鍍無(wú)法達(dá)到的光澤度很好的黑色效果。

鈦靶材

真空電鍍基本是一種物理沉積現(xiàn)象，既是在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。而在這電鍍的過(guò)程中，靶材是至關(guān)重要的存在，那么鈦靶材在真空電鍍過(guò)程中的應(yīng)用有哪些？寶雞巨偉鈦業(yè)，結(jié)合相關(guān)資料，將鈦靶材在真空電鍍中的應(yīng)用特點(diǎn)，分享如下：

1、金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

2、再適當(dāng)?shù)脑O(shè)定條件下可將多元復(fù)雜的靶材制作出同一組成的薄膜。

3、利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以制作靶材物質(zhì)與氣體分子的混合物或化合物。

4、鈦靶材輸入電流及濺射時(shí)間可以控制，容易得到高精度的膜厚。

5、較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。

6、濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。

7、基板與膜的附著強(qiáng)度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會(huì)繼續(xù)表面擴(kuò)散而得到硬且致密的薄膜，同時(shí)此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結(jié)晶膜。

8、薄膜形成初期成核密度高，可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜。

9、鈦靶材的壽命長(zhǎng)，可長(zhǎng)時(shí)間自動(dòng)化連續(xù)生產(chǎn)。

10、鈦靶材可制作成各種形狀，配合機(jī)臺(tái)的特殊設(shè)計(jì)做更好的控制及有效率。

鈦靶材作為新興科技產(chǎn)品，將在更多領(lǐng)域發(fā)揮作用，若需更深入了解鈦靶材及選購(gòu)產(chǎn)品，請(qǐng)隨時(shí)關(guān)注巨偉鈦業(yè)官網(wǎng)或電話咨詢（www.bjjwty.com ，15891077471 張經(jīng)理）